半導体試料への高精度な抵抗率測定に向けた数値シミュレーション活用への取り組み
Utilizing numerical simulations for high-precision resistivity
開催期間
16:45 ~ 17:45
場所
講演者
Dr. Taiga Nakano from Napson Corporation
概要
2024年10月 IMI Colloquium
■日時: 10月9日(水) 16:45 - 17:45
■場所: IMIオーディトリアム及びZoomによるオンラインコロキウム
■講師: ナプソン株式会社 中野 泰河氏
■講演タイトル: 半導体試料への高精度な抵抗率測定に向けた数値シミュレーション活用への取り組み
■講演要旨:
半導体分野では、高精度で信頼性のある抵抗率測定法へのニーズが高まっており、特に近年では歩留まりを
向上させるために、試料のエッジ(縁)付近での高精度な抵抗率測定法が求められています。
しかしながら、日本産業規格(JIS)で規定される測定法では、直方体や円柱といったレギュラーな形状の
試料のみが考慮されているため、複雑な形状を有する現実の測定試料ではエッジ付近での測定結果の信頼性が
疑問視されています。
そこで講演者は「高精度で信頼性のある測定法」の提供に向けて、測定法を支配している数理モデルへの
高精度な数値シミュレーションを用いた測定法の開発に取り組んできました。本講演では、講演者のこれまでの
取り組みと今後の展望を紹介します。
開催報告: https://www.imi.kyushu-u.ac.jp/post-10666/
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IMI Colloquium in October 2024
■Date : Wednesday, 9 October 2024 16:45-17:45
■Place : IMI Auditorium(W1-D-413) and Live streaming with ZOOM
■Speaker : Dr. Taiga Nakano from Napson Corporation
■Title : Utilizing numerical simulations for high-precision resistivity
■Abstract:
In recent years, the semiconductor field has seen a growing demand for high-precision
and reliable resistivity measurement methods. Particularly, there is a need for high-precision
resistivity measurement near the edges of samples to improve yield.
However, the measurement methods defined by the Japanese Industrial Standards (JIS)
consider only regular-shaped samples, such as rectangular or cylindrical forms. Consequently,
the reliability of measurement results near the edges of actual samples with complex shapes
has been a concern.
Addressing this, efforts have been made to develop measurement methods using high-precision
numerical simulations based on mathematical models, with the aim of providing reliable
measurement. In this talk, the speaker will introduce their past efforts and outline future prospects.
Report: https://www.imi.kyushu-u.ac.jp/post-10670/